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THD-CMP觸摸屏立式低溫恒溫槽

價格
電議

型號
THD-CMP

品牌
JTLIANGYOU

所在地
暫無

更新時間
2025-09-12 08:52:04

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    微機溫控低溫恒溫槽采用單片微處理控制、自整定PID調節(jié),鉑電阻(Pt100)測溫,控溫精度高、波動度??;采用全封閉技術的壓縮機(低于-40℃采用雙壓縮機復疊制冷技術和換熱系統(tǒng)),制冷效率高、噪聲低。儀器工作穩(wěn)定可靠,操作方便安全。

    人性化設計:小尺寸低溫槽系列兩邊把手方便搬運儀器,大容量低溫恒溫槽采用重型帶自鎖腳輪,便于移動。低溫恒溫槽采用相關的整體發(fā)泡工藝,具有良好的隔熱性能、有效減少了冷量的損失。

    *的循環(huán)攪拌設計:保證了槽內液體在內循環(huán)中形成分散均勻流暢,熱交換平穩(wěn)。低溫恒溫槽攪拌溫度波動度±0.05℃,顯示分辨率0.01℃。

    適用于內/外溫控應用:既可以直接將樣品放置在開口浴槽中恒溫,也可以外接控制外部需要恒溫的測量單位。

    產(chǎn)品簡介:

    微機溫控低溫恒溫槽采用單片微處理控制、自整定PID調節(jié),鉑電阻(Pt100)測溫,控溫精度高、波動度?。徊捎萌忾]技術的壓縮機(低于-40℃采用雙壓縮機復疊制冷技術和換熱系統(tǒng)),制冷效率高、噪聲低。儀器工作穩(wěn)定可靠,操作方便安全。

    人性化設計:小尺寸低溫槽系列兩邊把手方便搬運儀器,大容量低溫恒溫槽采用重型帶自鎖腳輪,便于移動。低溫恒溫槽采用相關的整體發(fā)泡工藝,具有良好的隔熱性能、有效減少了冷量的損失。

    *的循環(huán)攪拌設計:保證了槽內液體在內循環(huán)中形成分散均勻流暢,熱交換平穩(wěn)。低溫恒溫槽攪拌溫度波動度±0.05℃,顯示分辨率0.01℃。

    適用于內/外溫控應用:既可以直接將樣品放置在開口浴槽中恒溫,也可以外接控制外部需要恒溫的測量單位。

    DC-0506 低溫恒溫槽 DC-0506 低溫恒溫槽 DC-0506 低溫恒溫槽

    產(chǎn)品特點:

    1. 采用微機溫控PID調節(jié)、自整定控制技術,控溫精度達± 0.05℃

    2. 全封閉環(huán)保壓縮機制冷系統(tǒng),無CFC,降溫快。

    3. 溫度范圍:可選-50~100℃(介質根據(jù)溫度范圍選純水、*、酒精等),也可按照用戶的要求設計、生產(chǎn)定制產(chǎn)品

    4. 容量范圍:6L、10L、15L、20L、30L,也可按照用戶的要求設計、生產(chǎn)定制產(chǎn)品。

    5. 機身外殼采用防老化靜電噴塑技術,臺板內膽攪拌泵等全部采用SUS304不銹鋼材料;

    6. 做工精細的機箱前面板和臺面,加上的人性化R圓角設計結構,可避免操作人員在不經(jīng)意間被棱角所傷。

    7. 通風格柵,方便制冷單位的冷凝器通風散熱

    8. 內循環(huán)功能:采用無熱量離心循環(huán)泵,避免傳統(tǒng)水泵因自身產(chǎn)熱而影響槽體溫場。

    9. 外循環(huán)功能:循環(huán)泵可經(jīng)行恒溫液體外引循環(huán),建立第二溫度場。

    10. 低溫恒溫槽安全保護裝置:

    1)具有斷電保護功能

    2)具有上下限溫度設定功能

    3)溫度失控保護和報警功能

    4)加熱裝置具有低水位防干燒、防爆功能(選配)

    5)壓縮機過熱、過電流多重保護功能

    6)有傳感器開路顯示功能;

    7)設備可以選配燒杯架,方便夾住圓底燒杯不倒

    8)設備可選配磁力攪拌功能,燒杯放到中心可以進行磁力攪拌

    9)設備可選配外循環(huán)泵流量可調功能,調節(jié)旋鈕后可以控制泵的流速

     

    產(chǎn)品用途:

    DC系列低溫恒溫槽廣泛適用于生物工程、醫(yī)藥、食品、化工、冶金、化學分析、石油等領域,為用戶提供一個受控的、溫度均勻的恒定場源,是研究所、高等校、工廠實驗室、質檢部門, 為用戶工作時提供一個冷熱受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境,對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品在槽內直接進行恒定溫度試驗或測試,可用于直接加熱或制冷,作為輔助加熱或制冷的溫度來源,如對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫。

     

    應用領域:

    恒溫領域:傳感器檢測、恒溫生化反應、恒溫材料老化等。
    生化領域:旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、粘度計、流變儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器(合成器)等。
    材料領域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
    醫(yī)療領域:導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。
    物化領域:激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。

     

     

     

    溫度范圍

    ℃)

    溫度波動度

    ℃)

    溫度分辨率(℃)

    工作室尺寸

    mm)

    槽深度

    mm)

    泵流量

    L/min)

    開口尺寸

    mm)

    THD-0506-CMP

    -5~100

    ±0.05

    0.01

    250×200×150

    150

    4

    135×135

    THD-0510-CMP

    250×200×200

    200

    8

    135×135

    THD-0515-CMP

    280×250×220

    220

    8

    235×160

    THD-0520-CMP

    280×250×280

    280

    10

    235×160

    THD-0530-CMP

    400×325×230

    230

    12

    310×280

    THD-1006-CMP

    -10~100

    250×200×150

    150

    4

    135×135

    THD-1010-CMP

    250×200×200

    200

    8

    135×135

    THD-1015-CMP

    280×250×220

    220

    8

    235×160

    THD-1020-CMP

    280×250×280

    280

    10

    235×160

    THD-1030-CMP

    400×325×230

    230

    12

    310×280

    THD-2006-CMP

    -20~100

    250×200×150

    150

    4

    135×135

    THD-2010-CMP

    250×200×200

    200

    8

    135×135

    THD-2015-CMP

    280×250×220

    220

    8

    235×160

    THD-2020-CMP

    280×250×280

    280

    10

    235×160

    THD-2030-CMP

    400×325×230

    230

    12

    310×280

    THD-3006-CMP

    -30~100

    250×200×150

    150

    4

    180×140

    THD-3010-CMP

    250×200×200

    200

    8

    180×140

    THD-3015-CMP

    280×250×220

    220

    8

    235×160

    THD-3020-CMP

    280×250×280

    280

    10

    235×160

    THD-3030-CMP

    400×325×230

    230

    12

    310×280

    THD-4006-CMP

    -40~100

    250×200×150

    150

    4

    180×140

    THD-4010-CMP

    250×200×200

    200

    8

    180×140

    THD-4015-CMP

    280×250×220

    220

    8

    235×160

    THD-4020-CMP

    280×250×280

    280

    10

    235×160

    THD-4030-CMP

    400×325×230

    230

    12

    310×280

     

     

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